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电子半导体废水怎么处理|电子半导体废水如何处理

该晶圆产生厂属于华北中南部,具体制作8寸大半导晶圆,单日废水处理污染物量约800吨。基于制作阶段中适用一大批氢氧化钠做晶圆蚀刻,引致废水处理中氟化物密度多达200-300mg/L,远超国家的污染物细则(10mg/L左右)。 废液材料及來源 工业废水主要是位于这三个原则: 晶圆蚀刻制作工序 :含高含量氟化物(HF)、盐酸及一点高价属 化学工业自动化拋光(CMP)焦化废水 :含nm级硅颗料、设计络合剂 机 的清洗生活污水 :含异丙醇、氟化物等有机肥料物 清理制作工艺具体流程 所采用"无机化学放置+水泥混凝土放置+广度过滤清洁"三级考试加工系统性: 一级通过成绩清理 :加药系统氯化钙和氢阳极氧化钙,进行氟化钙析出,氟化物的还原率达85% 一级整理 :调用PAC(整合氯化铝)和PAM(聚乙烯酰胺),消除胶体溶液态污染问题物 三级分销办理 :采用多材质过滤水器和灵家用活性炭气体吸附,水流氟化物浓硫酸浓度保持稳定在8mg/L以內 关键点产品也包括:pH自己的调节整体、斜管结晶池、板框压滤设备(废水脱水等)。 决定性治疗效果 大型项目操作3年探测数剧界面显示: 氟化物平均值溶度:7.2mg/L(不低于的国标化) COD取除率:92% 污水含水分率:≤65% 年收售氟化钙副车辆约150吨,保证资源量化灵活运用

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