沈阳某半导体技术IC芯片制做厂，晶圆加工办理环节中引起含硅、氟的特色化工废污水，设计的办理产值1200吨/日。化工废污水的成分繁复，富含nm级硅粉末及氢氧化钠，经典办理具体方法无发考核标准。 废水处理部分及來源 核心的污染物质 ：氢氧化铁硅（100-500nm颗粒直径）、氟阳离子（200-300mg/L）、异丙醇 来源地多种工序 ：晶圆刻蚀工业废污水（45%）、CMP化学反应机抛光处理工业废污水（40%）、的设备清洗道路水（15%） 工作生产技术具体步骤 不断创新用"有机化学石雕文化沉淀+防化膜离心分离"技术水平路线规划： 钙盐发展 ：加药系统氯化钙弄掉氟正离子（转换成CaF2沉淀物中） 水解酸化池症状 ：挽回斜管沉淀池剂实行橡胶胶体部分硅脱稳 管式微滤 ：0.1μm粒径膜虚报冒领微细颗粒肥料 反侵入系统软件 ：脱盐率>98%，回笼率75% 多效蒸发沉淀 ：浓水段保持氟化物零废气 终结效率 氟化物盐浓度：<8mg/L（达不到国一级通过成绩标淮10mg/L） 硅含碳量：<5mg/L 水影视资源回收率：70%于闭式混凝土冷却塔塔保湿 危废处理减量化：蒸发器渣子量较过去工艺流程避免60%